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Keramische Komponenten für Plasmaätzgeräte

fortschrittliche Keramikkomponenten

Die fortschrittlichen hochreinen Keramikkomponenten von CoorsTek sind so konstruiert, dass sie den extremen Umgebungen in Plasmaätzkammern (oder "trockenen" Ätzkammern) standhalten - einschließlich chemischer Dampfphasenätzmittel, Hochspannungs-HF- (Hochfrequenz-) und Mikrowellenplasma, unbeständigen Nebenprodukten und aggressiven Reinigungsphasen.

KOMPONENTEN DER ÄTZVERFAHREN

Minimieren Sie Verunreinigungen und außerplanmäßige Wartungsarbeiten mit hochreinen Komponenten, die für die Anforderungen der Plasmaätzverarbeitung entwickelt wurden, einschließlich:

Silicon carbide semiconductor edge ring.

FoKusRINGE

Fokus-/Kantenringe fördern eine gleichmäßige Ätzung der Waferkante bzw. des Waferumfangs.  Bei Verwendung mit einem elektrostatischen Chuck (E-Chuck) ruht der Wafer auf dem Kantenfokusring und wird durch die elektrostatische Ladung gehalten.

Alumina nozzle for gas flow into an etch process chamber

Sprühdosen

Sprühdosen und Injektoren sind auf einen präzisen Gasdurchfluss und eine gleichmäßige Steuerung ausgelegt, um Gase gleichmäßig in der Ätzkammer zu verteilen. Diese Komponenten erfordern eine hohe Plasmabeständigkeit, Durchschlagfestigkeit und eine starke Korrosionsbeständigkeit gegenüber den Prozessgasen und Nebenprodukten.

Alumina window plasma etcher.

Fenster / DECKEL

Fenster sind Kammerdeckel, die HF (Hochfrequenzwellen) und Mikrowellenenergie in die Plasmaätzkammer übertragen und gleichzeitig der Erosion durch die raue Plasmaätzumgebung widerstehen. Ein effektives Fenster hat eine verlustarme Tangente (hohe Durchlässigkeit) bei HF- und Mikrowellenfrequenzen. Andernfalls kann Energie absorbiert und in übermäßige Wärme umgewandelt werden, wodurch sowohl das Verfahren (verlorene HF-Energie) als auch die Komponenten (übermäßige Wärme und Wärmegradienten) beeinträchtigt werden.