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Diffusions- & LPCVD-Verarbeitung

Komponenten der Diffusions- & LPCVD-Verarbeitung

Herkömmliche Diffusions-, LPCVD- (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) und andere Batch-Halbleiteranwendungen machen die Wärmeeigenschaften und Reinheitsgrade fortschrittlicher Keramiken erforderlich.

Ingenieurkeramikkomponenten

CoorsTek bietet speziell für die Anforderungen der Ladungsdiffusion und LPCVD entwickelte Keramikkomponenten an, darunter:

Empfohlene Diffusions- & LPCVD-Materialien

LEITBLECHE & HALTERUNGEN

Keramische Leitbleche ermöglichen ein vollständigeres Mischen der Reaktantengase in Prozessrohren und -kammern, wodurch die Gleichmäßigkeit und der Ertrag der Geräte verbessert werden.

silicon carbide diffusion baffle holder for semiconductor processing.

InjeKtorEN

Keramikinjektoren wurden entwickelt, um die Verfahrensgleichmäßigkeit in den gesamten Prozesskammern zu verbessern, indem eine kontrollierte Verwirbelung und abgegebene Gasmenge sichergestellt werden. Fortschrittliche Keramiken kombinieren Stabilität unter hohen Temperaturen und Korrosionsbeständigkeit für eine langfristige Leistung und Haltbarkeit in Injektoranwendungen.

AUSKLEIDUNGEN & PROZESSROHRE

Prozessrohre werden in den Reaktionszonen von Halbleiteröfen eingesetzt, was eine hohe Reinheit und Wärmestabilität erfordert. Einige Bearbeitungsgeräte verwenden Prozessrohre mit Auskleidungen. Bei kleineren, traditionellen Porzessrohren wird üblicherweise Quarz eingesetzt. Größere Röhren mit höherer Leistung benutzen häufig hochleistungsfähig Siliciumcarbid (SiC) mit überlegener Festigkeit, Steifigkeit und Haltbarkeit.

Schematic of a process tube using CoorsTek advanced materials.

Paddel

Cantilever-Paddel werden eingesetzt, um Halbleiter-„Waferboote“ oder -Trägerwafer in Prozessrohren, Ofenreaktoren und anderen Wärmesystemen führen Waferträger in Prozessrohe hinein und hinaus,  wobei sie nur an einem Ende abgestützt werden. Längere Paddel fördern einen höheren Waferdurchlauf in größeren Reaktoren, indem Keramiken wie Siliziumkarbid (SiC) verwendet werden, um die erforderliche Kombination aus hoher Temperaturbeständigkeit, Steifigkeit und Sauberkeit zu gewährleisten.

WaferBOOTE & -SOCKEL

CoorsTek bietet Waferboote, Wafersockel und kundenspezifische Waferträger für vertikale / säulenartige horizontale Konfigurationen. Hochentwickelte Keramiken bieten eine hervorragende Wärme- und Plasmabeständigkeit bei gleichzeitiger Minderung von Partikeln und Verunreinigungen. Siliziumkarbid (SiC) in Halbleiterqualität bietet zudem Stabilität unter hohen Temperaturen für Waferträger mit hohen Kapazitäten.

Kontaktdaten und zusätzliche Informationen


Möchten Sie mehr über die Projektanforderungen  der Diffusions- & LPCVD-Verarbeitung erfahren oder diese mit einem Experten?

 

Herunterladen: Handbuch zur Reinigung & Oberflächenvorbereitung für Halbleiterkomponenten aus Siliziumkarbid (auf Englisch) 

Erfahren Sie hier mehr über  werden mehr über die Reinigung mithilfe von

  • Fortlaufenden Schritten und Ablaufplänen
  • Methoden zur Erstreinigung, Oberflächenvorbereitung & Wartung
  • Einzelheiten zu verschiedenen Verfahren einschließlich Oxidation und LPCVD-Nitrid, Poly und TEOS
  • Installationsfertigen Komponenten