液晶ディスプレイ用大型フォトマスク基板
ICマスクの材料技術とLCDマスクの研磨技術を融合！
超高純度の合成石英ガラスT-4000シリーズは、純度が高いのはもちろんのこと、耐熱性、光透過性、電気絶縁性に優れ、化学的にも極めて安定しています。合成石英ガラスの特性と高度な研磨技術を活かし、最近ではLCD製造における微細なパターン露光工程用のフォトマスク材として幅広く使用されています。
透過率測定例
当社の大型フォトマスク基板は250nm以上の波長で90％以上の透過率を有しています。
露光工程
露光工程は液晶パネルの解像度を決める最も重要な工程の一つで、レンズを用いてパターンマスクを通した光をガラス基板上に投影する工程です。
プロシキミティ方式
フォトマスク製造工程
大型フォトマスク基板
高精細研磨した石英ガラス基板を出荷します。
ブランクス
クロム膜(遮光膜)を成膜したブランクスにします。
レジスト塗布
ブランクスにレジスト(感光材)を塗布します。
描画
データを元に描画機でパターンを描画します。
現像
描画の済んだマスクから不要なレジストを除去します。
エッチング
現象の済んだマスクから不要なクロム膜を溶解します。
検査・測長
出来上がったマスクを検査・測定します
洗浄・出荷
検査を合格したマスクを純水で洗浄し出荷します。