炭化ケイ素

製品概要

炭化ケイ素（SiC）は、高温下でも高い硬度、耐摩耗性、耐食性、強度を発揮します。クアーズテックは、以下のような特定のアプリケーションに求められる最適化された特性と機能を提供する、さまざまな製造プロセスおよび組成の炭化ケイ素を設計してきました：

電気抵抗： 入念な製造プロセスの管理により、体積抵抗率を「調製」することができます。

潤滑：一部の配合では、曲げ強度が若干低くなる代わりに、潤滑のために黒鉛が粒構造に埋め込まれています。

高純度：クアーズテックの PureSiC® CVD炭化ケイ素は、化学気相成長法（CVD）により、超高純度（99.9995%以上）のセラミック部品やコーティングを提供します。

常圧焼結炭化ケイ素

常圧焼結炭化ケイ素は、化学腐食に対して非常に耐性があります。高い最高使用温度と硬度を兼ね備えているため、装甲と腐食性の非常に高い環境の両方のおよび半導体プロセスチャンバーのアプリケーションに使用できます。

CERASIC®

高い耐熱強度だけでなく、耐摩耗性や耐腐食性も必要とする機械部品に最適な炭化ケイ素材料です。

反応焼結炭化ケイ素

反応結合炭化ケイ素は、ケイ化炭化ケイ素と呼ばれることもあり、金属ケイ素を含浸させたセラミックスです。この含浸により、機械的、熱的、電気的特性の独自の組み合わせが得られ、アプリケーションに合わせて調整することができます。

PureSiC® CVD炭化ケイ素

化学気相成長（CVD）炭化ケイ素は、炭化ケイ素の高い強度と優れた摩耗特性を維持しながら、過酷な環境でも耐腐食性を発揮します。この性能と99.9995%という卓越した純度が相まって、半導体製造に使用される超クリーン製造の高速化と効率化に貢献しています。

液相焼結炭化ケイ素

低気孔率の微細構造により、液相（LP）焼結炭化ケイ素の優れた機械的特性、特に硬度が得られます。このため、LP炭化ケイ素はさまざまな機械アプリケーションにおいて優れた材料となっています。

セラミックスの専門知識

クアーズテックは、セラミックスの独自の材料特性を最大限に引き出すように配合を行っています。これには、精密な粒構造制御による粒径の最適化が含まれます。

当社の専門家は、化学蒸着法（CVD）や再結晶化など、さまざまな製造管理技術を活用し、アプリケーションに最適な材料を製造することができます。

セラミックスの専門知識

クアーズテックは、独自の材料特性を最大限に引き出すようセラミックスを配合しています。これには、精密な粒構造制御による粒径の最適化が含まれます。

当社の専門家は、化学気相成長法（CVD）や再結晶法など、さまざまな製造プロセスを利用して、アプリケーションに最適な材料を製造することができます。

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