확산 및 LPCVD 공정용 부품
배치 확산 및 LPCVD 부품
전통적인 확산 공정과 저압 화학 기상 증착(LPCVD), 기타 배치형 반도체 공정에서는 열 특성과 고순도가 뛰어난 첨단 세라믹이 필수입니다.
엔지니어드 세라믹 부품
쿠어스텍은 배치 확산 및 LPCVD 요구 사항에 맞게 설계된 엔지니어드 세라믹 부품을 제공합니다.
추천 확산 및 LPCVD 소재
배플 및 홀더
세라믹 배플은 프로세스 튜브와 챔버 내 반응 가스를 고르게 혼합해 공정 균일성과 수율을 높여줍니다.
인젝터
세라믹 인젝터는 챔버 둘레에 가스를 일정한 속도와 양으로 공급해 공정 균일성을 높이도록 설계됩니다. 첨단 세라믹은 고온 안정성과 내식성을 동시에 갖춰 인젝터 부품의 긴 수명과 안정적인 성능을 제공합니다.
라이너 및 프로세스 튜브
프로세스 튜브는 반도체 퍼니스의 반응 구역에서 사용되며, 높은 순도와 열 안정성이 요구됩니다. 일부 장비에서는 프로세스 튜브 내부에 라이너를 적용하기도 합니다. 소형 전통 공정에서는 주로 쿼츠 튜브를 사용하지만, 더 크고 고성능이 요구되는 공정에서는 강도, 강성, 내구성이 뛰어난 고성능 실리콘 카바이드(SiC) 튜브가 널리 사용됩니다.
패들
캔틸레버 패들은 반도체 웨이퍼 보트 또는 캐리어를 프로세스 튜브, 퍼니스 리액터 등 열 공정 시스템 내에 적재하거나 이동할 때 사용됩니다. 한쪽 끝에서만 지지하는 구조로, 프로세스 튜브 안으로 웨이퍼 캐리어를 삽입하거나 빼낼 수 있습니다. 대형 리액터에서는 긴 패들을 사용해 더 많은 웨이퍼를 처리하며, 이때 고온 강도, 강성, 청정성이 뛰어난 실리콘 카바이드(SiC) 같은 세라믹 소재가 사용됩니다.
웨이퍼 보트 및 페데스털
쿠어스텍은 수직형과 수평형 모두에 맞는 웨이퍼 보트, 페데스털, 맞춤형 웨이퍼 캐리어를 제공합니다. 첨단 세라믹은 열 내성과 플라즈마 내구성이 뛰어나며, 입자와 오염물 발생을 최소화합니다. 반도체 등급 실리콘 카바이드(SiC)는 고온 강도가 뛰어나 대용량 웨이퍼 캐리어용 소재로 적합합니다.
문의 및 추가 정보
배치 확산 또는 LPCVD 공정 관련 솔루션이 필요하신가요? 프로젝트 요구 사항에 대해 상담을 원하신다면 언제든 문의해 주세요.
다운로드 요청:
실리콘 카바이드 반도체 부품용 세정 및 표면 처리 매뉴얼
다음 내용을 확인하실 수 있습니다.
- 단계별 공정 및 플로우 차트
- 초기 세정, 표면 준비 및 유지 관리 방법
- 산화 공정, LPCVD 질화, 폴리, TEOS 등 다양한 공정별 세부 내용
- 바로 설치 가능한 부품 정보
