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플라즈마 에칭 장비용 세라믹 부품

첨단 세라믹 부품

쿠어스텍의 고순도 첨단 세라믹 부품은 플라즈마 에칭(또는 ‘건식’ 식각) 챔버의 극한 환경을 견디도록 설계되었습니다. 기화된 화학 에천트, 고전압 RF(무선 주파수) 및 마이크로파 플라즈마, 휘발성 부산물, 그리고 강력한 세정 사이클 등 까다로운 조건에서도 안정적인 성능을 유지합니다.

애칭 공정용 부품

쿠어스텍의 고순도 부품은 플라즈마 에칭 공정의 혹독한 환경에 맞춰 설계되어 오염과 예기치 않은 유지보수를 최소화하는 데 도움을 줍니다. 주요 부품은 다음과 같습니다:

반도체용 실리콘 카바이드 엣지 링

포커스 링

Focus/edge rings are designed to improve etch uniformity around the wafer edge or perimeter. When used with an electrostatic chuck (e-chuck), the wafer rests on the edge focus ring - held in place by the electrostatic charge.

에칭 공정 챔버 가스 주입용 알루미나 노즐

노즐

노즐과 인젝터는 가스를 에칭 챔버에 균일하게 분사할 수 있도록 정밀한 유량 제어와 분포 균일성을 고려해 설계됩니다. 플라즈마 저항성, 우수한 절연 특성, 공정 가스 및 부산물에 대한 내식성을 갖춰, 고난도 반도체 공정에서도 안정적인 성능을 유지합니다.

플리즈마 에처용 알루미나 윈도우

윈도우 / 리드

윈도우(챔버 리드)는 RF(무선 주파수) 및 마이크로파 에너지를 플라즈마 에칭 챔버로 안정적으로 전달하도록 설계된 부품입니다. 플라즈마에 의한 침식에 강하고, RF 및 마이크로파 주파수 대역에서 손실 탄젠트가 낮아(즉, 에너지 투과율이 높아), 전송 효율이 뛰어납니다. 손실 탄젠트가 높으면 에너지가 열로 전환되어 과도한 발열과 열구배를 유발할 수 있으며, 이는 공정 효율 저하와 부품 손상으로 이어질 수 있습니다. 따라서 효과적인 윈도우는 공정 성능과 장비 수명을 모두 좌우하는 핵심 요소입니다.