웨이퍼 평탄화

내구성 있는 화학기계연마용 테이블 및 플레이트

CMP(화학기계 평탄화) 웨이퍼 연마용 테이블 및 플레이트는 완벽하게 평탄하고 매끄러운 표면을 구현하기 위해 높은 마모 및 부식 저항성과 탁월한 강성을 요구합니다.

쿠어스텍의CeraSiC™와 UltraSiC™ 직접 소결 실리콘카바이드(SiC) 부품은 CMP 연마 테이블, 플레이트 및 기타 반도체 및 평판 디스플레이 공정에 필요한 핵심 부품에 이러한 고성능을 제공합니다.

또한 온도 제어가 가능한 CMP 연마 테이블처럼, 고객의 니즈에 맞춰 다양한 채널과 기능을 설계할 수 있습니다. 최고 수준의 순도가 요구되는 환경에는 PureSiC® CVD 실리콘 카바이드 코팅이 최적의 솔루션입니다.

반도체 응용 예시

• 척(Chucks)
• 엔드 이펙터, 포크, 블레이드
• 평판 디스플레이
• 래핑 플레이트
• 미러
• 슬라이더
• 스테이지 소재
• 서셉터